2026年7月30日‌，湖南普照信息材料有限公司宣布，其自主研发的‌国内首张第 8.5 代高精度掩模基板‌成功下线。该基板尺寸为‌1220mm×1400mm‌，主要面向平板显示大尺寸光掩模核心应用领域，产品性能对标行业高端标准。

这一成果成功填补了国内掩模基板领域的技术空白，破解了平板显示产业链核心材料的“卡脖子”难题。

大尺寸掩模基板对大面积均匀性、低缺陷密度等关键指标要求极为严苛，此前技术壁垒高、攻关难度大，此次下线标志着我国在该核心材料领域取得了重大突破，可有效满足下游平板显示产业（如 LCD、OLED 等）对核心材料的迫切需求 。‌‌

本次下线的产品主要面向平板显示大尺寸光掩模核心应用领域，产品性能对标行业高端标准，可有效满足下游平板显示产业对核心材料的迫切需求。

普照材料掩模基板项目总投资18.4亿元，一期投资8亿元，二期投资10.4亿元。2023年底完成A轮融资5.6亿元，2024年至2025年完成B轮及B轮剩余额度融资8.3亿元。

早在 2024 年 7 月，景昇智鑫向普照材料交付了中国首台自主研发的高品质大面积掩模基板 PVD 镀膜装备，助力其实现基板材料全产业链的国产自主化 。

该项目作为湖南省重点建设内容，曾于 2025 年 9 月接受省国资委调研，重点关注其 G8.5 代及以下高精度掩模基板项目的工程进度与科技创新情况 。‌‌

在调研中，对普照材料在攻克关键领域“卡脖子”技术中展现的国企担当给予充分肯定。国资委纪检监察组组长表示，高精度掩模基板项目是湖南能源集团服务国家战略的重要举措，要把握行业发展趋势，放大产业特色优势，加大企业培育力度，提速项目建设步伐，稳步推进研发升级和技术迭代，为推动高质量发展注入动力活力。

资料显示，湖南普照信息材料有限公司成立于2003年8月，专注于掩膜基版材料的研发、生产和销售，主要产品包括75×75mm至700×800mm各种规格的溅射匀胶铬版，应用于平板显示器件、集成电路、精细光学、线路板、微纳加工等领域。