中微公司3nm刻蚀机小批量供货台积电！

截至2026年3月最新供应链信息，中微公司3nm刻蚀设备（CCP介质刻蚀）已通过台积电小规模验证并小批量供货；大规模量产验证预计在2026年Q3–Q4完成。
✅ 最新进展（截至今日）
当前状态
中微3nm刻蚀机已于2025年进入台积电3nm产线，完成工艺验证与小批量导入。
2026年2月，台积电正式下达首批10台3nm设备批量订单，用于N3E/N3P工艺。
目前处于爬坡验证阶段（良率与稳定性测试），尚未进入满产大规模验证。

大规模验证时间（关键节点）
小规模验证（已完成）：2025年中
批量导入（进行中）：2026年Q1–Q2
大规模量产验证（预计）：2026年Q3末–Q4初
验证通过后，将进入台积电3nm产线规模化采购与持续扩产。
技术定位
中微3nm刻蚀精度达0.02nm（亚埃级），为全球顶尖水平；是台积电3nm产线唯一国产设备供应商。