美拟禁止向中国出口DUV光刻机，瞄准中芯国际等核心企业。

4月7日，据快科技报道，美国国会两党参议员联手提出《MATCH法案》，计划进一步收紧对中国半导体产业的出口管制，核心举措便是禁止向中国出口DUV光刻机等关键芯片制造设备，且明确将中芯国际、长江存储、长鑫存储、华为、华虹半导体这5家中国核心半导体企业，纳入设备使用的禁止范围。

提案并未新增管制设备品类，核心变化在于彻底调整了设备出口的审批逻辑——以往设备出口还有部分审批通过的可能，如今则全面收紧，近乎实现“一刀切”式管制。与此同时，法案还精准堵上了中间商中转采购的漏洞，将设备的买卖、使用、后续维护乃至转售等全生命周期交易，都纳入管制范围，这也就意味着，涉事的5家企业不仅买不到新设备，就连现有设备的正常维护都将陷入困境。

法案中还设置了一项75%阈值校准机制，规则十分明确：若中国某一类设备的本土供应量，能够满足国内75%的市场需求，美国将解除对该类设备的出口管制，仅在自身仍保有战略主动权的领域，继续实施限制措施。

从本质来看，美国推出这份法案的核心目的，就是要切断中国核心半导体企业建设、维护世界级晶圆厂的稳定供应链，进而阻碍中国半导体产业的升级步伐。不过，该法案并非一经提出就能生效，其最终能否落地，还取决于美国国会的立法推进进程。好在目前我国已开启自主突破之路，上海微电子、宇量昇等企业已在DUV光刻机领域取得关键进展，相关设备已进入测试阶段，正全力缩小与国际先进水平的差距，积极应对外部管制带来的挑战。