华为发布“韬定律”，意味着我们不需要中高端甚至高端光刻机了？在我看来完全不是这么一回事。

“韬定律”不是拍脑袋想出来的，而是有已经量产的芯片作为事实基础的。华为半导体业务部总裁何庭波提到，过去六年华为利用“韬定律”设计并量产了381款芯片。这些芯片是用什么机器量产出来的呢？显然是光刻机，代工厂商几乎可以肯定是中芯国际。

我记得搭载了麒麟9000S芯片的Mate 60系列手机刚发布时，市场普遍认可运用了“堆叠”工艺，让本来无法量产等效7纳米芯片的光刻机做了出来。之后华为发布的多款芯片，包括手机SoC芯片、昇腾算力芯片都用到了“堆叠”工艺。该工艺的原理与“韬定律”的理念很相似。

我觉得可以这么描述“韬定律”的牛逼之处：西方国家用的工艺只能实现用100分性能的光刻机制造100分性能的芯片，而华为基于“韬定律”的创新半导体制造工艺打破了“摩尔定律”的掣肘，能用60分性能的光刻机制造出80分性能的芯片。未来可以制造100分性能甚至突破100分的芯片，就是何庭波说的等效1.4纳米的水平。

基于上述分析，可以得出两个推论。第一个是上文讲过的，制造芯片离不开好的光刻机，“韬定律”的出现不表示咱们可以不用光刻机了，只是能用次先进的光刻机生产最先进的芯片。我们还是需要次先进的光刻机，如湿式DUV光刻机，目前还未自主研发出来，要继续努力争取早日突破。

第二个推论是，将基于“韬定律”的工艺方式结合最先进的EUV光刻机（假设是100分性能），能制造出110分、120分性能的芯片，或者以低于现在的成本生产100分性能的芯片。与“摩尔定律”类似，这对全球半导体行业是有益的，只不过咱们是技术开创者，有先发优势，能在这块上先获益。

总结一下，“韬定律”有望成为划时代的技术突破成果，但不意味着不用自主研发中高端及以上光刻机了。

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