没有否认华为韬定律，
通过先进封装达到5纳米性能，
也是当下高端光刻机卡脖子下，
保持住上升势头，
甚至缩短差距的最优解。
但是千万不要无脑吹，
这其实是捧杀，
先进封装取代不了先进制程，
所以国内的光刻机发展反而更要加速。
通过先进封装，
为国内光刻机突破赢得时间，
摩尔定律和韬定律都是绕不开的核心技术。高端芯片光刻机 纳米光刻 AI计算光刻 2nm晶圆制程 芯片测试原理 二纳米芯片 高端芯片光刻机 纳米光刻 AI计算光刻 2nm晶圆制程 芯片测试原理 晶圆制造技术 半导体纳米技术