没想到中国光刻胶研发的“大佬”级别的人物竟然是她。
她就是2026年新晋中华人民共和国国际科学技术合作奖得主——艾尔莎·瑞秋曼尼斯。 可能不少人对这个名字很陌生，但在全球半导体光刻材料领域，她绝对是殿堂级的大佬。

她在微电子材料领域深耕近四十年，是化学放大光刻胶体系的核心奠基人。早年间在贝尔实验室任职时，她带领团队攻克了深紫外光刻胶感光度不足的行业难题，拿出了全球首套可工业化的深紫外光刻胶配方，直接推动芯片制程从微米级向纳米级跨越。时至今日，主流高端光刻胶的底层化学逻辑，依然沿用她当年搭建的技术框架。

她是美国工程院、发明家科学院、艺术与科学院三院院士，还曾担任美国化学会主席，在全球半导体材料学界和产业界都有举足轻重的话语权。这样级别的学者，本可以守着已有的成果安享行业地位，不必费心参与起步阶段的海外合作。可她始终觉得科学不该有国界壁垒，技术的进步本该在交流中互相推进。

早在上世纪九十年代，她就格外看重华裔科研人员的潜力，主动敞开实验室的大门接纳交流学者。2005年她率领美国化学会代表团访华，和国内多所高校、科研院所建立了初步的合作联系。那时候国内光刻胶研发还处在起步阶段，核心资料被海外企业严密封锁，很多同行都劝她没必要在起步阶段的团队身上耗费精力。

2013年开始，她和东华大学先进纤维材料全国重点实验室展开了长期深度合作。双方联合培养博士研究生，共同开展前沿材料课题研究，合作发表了十多篇高水平学术论文。她还连续多届担任先进纤维与聚合物材料国际会议的学术委员会主席，把这个原本规模不大的会议，推成了全球同领域最有影响力的学术盛会之一。

除了东华大学，她还多次受邀到清华大学、复旦大学、中科院相关研究所讲学，开设短期专业课程，把最前沿的光刻胶化学理论系统地带到国内。她主动推荐国内青年学者赴美深造，帮着对接顶尖的科研资源。不少如今在国内光刻胶领域挑大梁的科研人员，都曾受过她的指导和引荐。

前些年科技领域的交流环境生变，很多海外学者中断了和国内的学术合作，就连线上会议都尽量回避。她没有跟着收紧交流的边界，反而坚持参与国内的线上学术研讨，经常配合国内的时差调整自己的作息，凌晨时段上线给国内团队答疑解惑，帮着梳理实验思路，避开容易踩的研发误区。

网上有不少说法把国产光刻胶的突破全算在她头上，这其实并不准确。她深耕的是基础理论研究，从来没有直接提供过量产级的光刻胶配方。国内光刻胶能一步步实现量产突破，靠的是上千名本土科研工程师数万次的实验调试，从头到尾走完了工业化全流程的自主攻关。

她的价值，在于帮国内团队捅破了底层理论的窗户纸，把自己几十年积累的失败经验和判断逻辑分享出来，让国内研发少走了很多年的弯路。高端材料研发最耗时间的就是试错，有人指路和自己摸黑探索，进度差出好几年都很正常。这也是她能拿到国家级合作奖项的核心原因。

这份跨越国界的科研合作，最难得的是始终保持着真诚的底色。她不是为了获取商业利益来合作，也不是抱着技术施舍的姿态来交流，就是单纯站在科研工作者的角度，认可国内团队的潜力，愿意推动整个领域的共同进步。在处处讲技术壁垒的大环境里，这份初心格外珍贵。

很多人容易在这件事上走极端，要么觉得外来的帮助全是恩惠，要么觉得对外合作没必要。真正的科技发展，从来都是自主打底、开放提速。核心技术的自主权必须牢牢握在自己手里，同时敞开大门和全球优秀的头脑交流，才能在最短的时间里追上甚至超越前沿水平。

这次给她颁发国家级的科技合作奖项，既是对她二十多年付出的认可，也是一种态度的传递。我们尊重每一位真诚合作的科研工作者，也永远不会停下自主攻关的脚步。开放与自主从来不是对立的选择，而是大国科技发展必须同时走好的两条路。

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