联合早报今天（9月3日）报道：“荷兰半导体设备巨头阿斯麦的关键供应商、德国蔡司集团称，中国在研发尖端光刻机设备方面仍落后约15年。”

评几句：蔡司负责人给出中国EUV光刻机研发还需要大约15年的判断，只是一家海外企业基于当前技术格局作出的预估，并不等于最终定论。高端光刻机集合光学、精密机械、材料等无数顶尖技术，攻关难度极大，实现自主突破注定是一场长期硬仗。不过越是遭遇出口管制、技术封锁，越会倒逼国内半导体产业链加快自主研发的脚步。蔡司自己也承认，过度扩大设备出口限制反而会加速中国的技术创新。我国走芯片自主道路，不会被海外机构的时间预判所束缚，既要客观正视当前的技术差距，保持足够的耐心，稳扎稳打补齐产业链短板，也要坚持长期投入，一步一个脚印推进关键技术攻关，朝着半导体产业高水平自立自强的目标稳步前进。