据《联合早报》消息，ASML独家光学合作方、德国蔡司高管罗蒙德公开表态：按目前全球技术进度推算，中国造出可稳定商用的成熟EUV光刻机，大概需要15年时间。该说法仅为行业资深专家预判，并非官方定论。

EUV是全球工业难度最高的设备，整机重达180吨，由超10万个精密零件、4000多套传感系统组成。核心的光学镜片由蔡司独家供应，打磨精度达到原子级别，镜面误差不足0.12纳米，单块镜片从打磨、镀膜到光路校准，研发制造周期长达十几年。

而且EUV不是单一设备，是全球化顶尖产业链产物，串联欧美日等数十个国家、数千家顶尖企业配套，任何一项核心技术、精密零件都存在极高技术壁垒，单一国家很难快速实现全产业链自研替代。

目前国内不急于冲刺高端EUV，而是稳扎稳打，全力完善DUV成熟光刻机产业链，同时攻坚光刻胶、精密工件台、高能光源、超精密光学等核心短板，循序渐进缩小与国际顶尖半导体技术的差距。