SADP 是 Self-Aligned Double Patterning（自对准双重图形化），主要用于先进制程中实现比传统光刻更密、更细的线/鳍结构。

你可以把它简单理解成：

先用一次光刻做“模板”，再利用侧墙间隔层（Spacer）自动复制出更密集的图形，从而突破一次光刻的分辨率限制。#半导体 #芯片 #生化环材 #先进工艺#finfet #秋招