ASML EUV光刻机光学元件独家供应商、德国蔡司集团半导体事业负责人Frank Rohmund近日接受采访时表示——中国要开发出EUV光刻机大约还需要15年。
他称这是一个合理的推测，同时也坦言中国在这方面的实际进展难以量化。另外蔡司方面也承认，中国在浸润式DUV光刻机领域已取得进展。
据外媒7月报道，一家总部位于上海的公司已开始制造这类设备。Rohmund表示，中国已投入相关技术研发数十年，因此中国近期取得进展并不令人意外。
但他同时强调："现在我们必须观察这些设备实际上究竟有多大的能力，因为我们目前仍遥遥领先。"（快科技）
![vivoX500系列代言人开始预热了？首先排除周杰伦[doge]](http://image.uczzd.cn/14335592576782990337.jpg?id=0)
